미국 제재 뚫고 중국 반도체 국산화 속도…EUV 핵심 부품 90% 국산화
중국이 미국의 기술 통제를 뚫고 EUV 노광장비 핵심 부품의 90% 국산화를 이뤄냈다. 상하이 산업박람회에서 중국 업체가 첨단 반도체 생산에 필수적인 극자외선(EUV) 노광장비의 핵심 부품인 광원 시스템 시제품을 공개했다. EUV 노광장비는 회로를 아주 정밀하게 새기는 장비로, 이를 개발한 중국 업체는 부품의 90%를 국산화했다고 밝혔다. 다만 상용화까지는 3년 이상 걸릴 것으로 내다봤다.
EUV 개발 관계자인 왕호는 "이것 자체가 하나의 기적"이라며 "여기에 사용된 이산화탄소 레이저에도 방전 플라스마 기술이 적용됐으며 핵심 기술을 20년 넘게 축적해 왔다"고 말했다.
자체 개발과 별개로 해외 장비 확보도 가속화되고 있다. 네덜란드 장비업체 ASML의 3분기 중국 장비 매출은 전 분기보다 109% 급증했다. 중국이 자체 기술 개발과 해외 장비 도입을 동시에 추진하며 반도체 생산 기반을 확대하고 있다.
중국 낸드플래시 업체 YMTC는 올해 2분기 세계 시장 3위로 올라섰다. 중국 D램 업체 CXMT도 저장 용량을 높일 수 있는 차세대 셀 구조 개발에 진전을 보였다. 중국 반도체 검사장비업체 라이쥔성 회장은 "D램 제품 개발은 보통 반년 단위로 이뤄지지만 창신메모리는 여러 과정을 동시에 진행해 빠르면 일주일마다 새 버전을 내놓을 수 있다"고 설명했다.
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