반도체 핵심 기술 유출 전직 연구원 실형 선고

중국 반도체 회사에 국가핵심기술을 유출한 전직 연구원과 공범들이 항소심에서 실형을 선고받고 법정 구속됐다. 대전고등법원 제1-1형사부는 19일, 산업기술유출방지법 및 부정경쟁방지법 위반, 업무상 배임 혐의로 기소된 전직 연구원 A 씨(59)와 공범 2명에게 징역형을 선고하고 법정에서 구속했습니다. 조사 결과, A 씨는 2018년 임원 승진에 실패하자 범행을 계획했으며, 이듬해인 2019년부터 비밀 메신저를 통해 중국 현지 사업을 관리하고 국내 동료 연구원들을 중국 회사로 이직하도록 포섭한 것으로 드러났습니다.

A 씨와 공범들은 2019년부터 2020년까지 사내 보안망에 무단으로 접속해 반도체 웨이퍼 연마제인 CMP 슬러리와 패드 관련 공정도 등 핵심 기밀자료를 열람하고, 개인 휴대전화로 촬영해 중국 업체에 넘긴 혐의를 받는다. 재판부는 A 씨에게 원심과 같은 징역 2년 6개월을 선고했다. 재판 중 보석으로 풀려나 불구속 상태였던 A 씨는 이날 선고와 함께 보석이 취소되며 즉시 재구속됐다. 1심에서 집행유예를 받았던 공범 2명은 항소심에서 각각 징역 2년(벌금 2,000만 원)과 징역 1년 6개월의 실형을 선고받아 법정 구속됐다.

피고인들은 항소심에서도 "유출된 기술이 기밀이나 국가핵심기술에 해당하지 않는다"며 혐의를 부인했다. 재판부는 이 주장을 기각하고, 1심보다 형량이 가벼웠던 공범들에게 실형을 선고했다. 재판부는 "계획적이고 조직적인 범죄로, 반도체 업계 전반에 경종을 울려 유사 범죄를 막을 필요가 있다"고 판시했다.